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機械拋光液制備設備

簡要描述:NP-CMP化學機械拋光液制備設備主要用于CMP(化學機械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

  • 產品型號:NP-CMP
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-06-20
  • 訪  問  量:2647

詳細介紹

NP-CMP化學機械拋光液制備設備主要用于CMP(化學機械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。


NP-CMP化學機械拋光液制備設備經過測試的工藝路線,已經實現(xiàn)量產The tested process route has achieved mass production ;                      

智能控制,實時監(jiān)測,完整數據存儲,直觀顯示圖、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables;

轉速可調,溫度可控,超聲波強度可調,可定時Rotating speed adjustable, Temperature controlled, Ultrasonic intensity adjustable, Timed ;

操作方便簡潔,清洗容易  Easy and simple operation,easy to clean。

NP-CMP化學機械拋光液制備設備  參數:

Items

實驗型Experiment   Type

生產型Production   Type

溫度Temperature(℃)

-30℃~80℃

-20℃~80℃

分散方式Dispersion   Type

連續(xù)式continuous

連續(xù)式continuous

材質Material   quality

玻璃、不銹鋼、鈦   glass or   stainless steel

不銹鋼、鈦stainless   steel

規(guī)格Specification

依容積depend   on volume

定制customized

流量Flow   rate

50~1000ml/min

可定制customized

介質粘度media   viscosity

104cP

104cP

攪拌轉速agitation   speed

500~3000rpm依實際需求選擇

500~3000rpm依實際需求選擇

剪切轉速agitation   speed

1400~20000rpm依實際需求選擇

1400~12000rpm依實際需求選擇

電源Power

220V/50Hz

220V/50Hz   、380V/50Hz

超聲功率Ultrasonic   power

200~3000W

定制customized

超聲頻率Ultrasonic   Frequency

20KHz、28KHz、40KHz、68KHz

20KHz28KHz、40KHz68KHz

顯示方式Display   model

數顯、液晶觸摸屏digital   display,LCD   touch screen 依據需要可選擇

液晶觸摸屏LCD   touch screen


溫度、功率可調Temperaturepower   adjustment


   NP(納威科技)是一研發(fā)、制備、定制納米、新能源等材料的反應、分散、整條產線等設備及清洗設備高科技公司。 公司產品開發(fā)遵循“智能化、模塊化、連續(xù)化、小型化"的設計原則,堅持“設計制造最合適的設備來滿足用戶的工藝條件"、和“真心為客戶提供最佳的解決方案和服務"的理念,開發(fā)出來的系列微納米材料合成、反應設備、微納米材料高效分散設備廣泛適用于納米Ni、Ag、CuFePO4、MnO2ZrO2、TiO2Mg(OH)2、SiO2、磷酸鐵、磷酸鐵鋰、三元等多種納米材料的從實驗室研究、小試、中試放大、直到工業(yè)化規(guī)模生產應用。包括有:1、標準的實驗室使用的反應設備、分散設備、攪拌設備、研磨設備、清洗設備等;2、定制各種實驗室設備;3、定制實驗室成套設備;4、定制中試設備;5、量產設備等。




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